沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹積(しんたけ・つもる)教授は、先端半導体の製造に不可欠な極端紫外線(EUV)露光技術の新しい設計を提案した。既存の装置に比べ小型の光源で使えるため、装置のコストを大幅に削減し消費電力も10分の1程度まで少なくできるという。商用化すれば、先端半導体製造の常識を覆す可能性を秘めている。露光装置は半導体の回路パターンを描いたフォトマスクの映像をシリコンウエハー